ENCIMA del magnetrón Titanium del nitruro que farfulla la máquina de la vacuometalización de PVD

1. El principio de la farfulla del magnetrón se basa en la teoría de la descarga de resplandor de cátodo, él gasta

campo magnético superficial del cátodo cerca de la superficie del pedazo del trabajo. Entonces mejora el átomo farfullado

tarifa de la ionización. Guarda la uniformidad de la farfulla del magnetrón, también puede mejorar el efecto brillante superficial.


2. La fuente de la evaporación del plasma del arco es confiable, él puede trabajar bajo corriente 40A en la optimización del cátodo

y la estructura del campo magnético. Sucederá difusión atómica entre la capa y el material. Él

también tiene las ventajas que el haz del lon ayudó a la deposición.


3. Limpie el sistema de bombeo con la aspiradora, sistema de control eléctrico y el sistema completo de la vacuometalización puede ser

modificado para requisitos particulares según exigencias del consumidor.

4. La fuente secundaria del ion criogénico de los equipos, un poco de substrato sin la calefacción del material, él puede

haga directamente la película fría de la galjanoplastia en la temperatura ambiente, ahorran energía, aumentan productividad.


5. El máximo de la temperatura para la cámara de capa de la herramienta puede 600 grados, además de la herramienta

Los usos de la capa de la máquina de pintar requieren el aparato de la calefacción, otros usos no necesitan el dispositivo.
 

Principio de funcionamiento de la farfulla del magnetrón de la máquina de la vacuometalización, el supuesto “chapoteo”, debajo del

la acción de los electrones en un campo eléctrico acelera al substrato en curso de colisión con argón

átomos, ionización hacia fuera una gran cantidad de iones del argón y electrones. El electrón vuela hacia el substrato,

el ion del argón acelera el material de blanco bajo acción del campo eléctrico, farfullando hacia fuera un grande

el número de átomo de la blanco, y el átomo neutral de la blanco (o la molécula) se deposita en el substrato para formar

película. Electrón secundario en la aceleración a volar al substrato por el campo magnético en curso de lorentz

fuerza magnética, la influencia del área confinada cerca del plasma de la superficie de la blanco, la densidad del plasma en

el área es electrón muy alto, secundario bajo acción del campo magnético alrededor de la superficie de la blanco es

el movimiento circular, la trayectoria del movimiento del electrón es muy largo, constantemente en curso de movimiento del impacto

ionización hacia fuera una gran cantidad de bombardeo del ion del argón de la blanco, después de muchas veces de la colisión del

la energía de electrón reduce gradualmente, abandonado el yugo de las líneas del campo magnético, lejos de la blanco

material, la deposición final en el substrato.